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NAOSITE : Nagasaki University's Academic Output SITE > 060 工学部・工学研究科 > 060 紀要 > 長崎大学工学部研究報告 > 第33巻 第61号 >

MgO薄膜高速成膜のための誘導結合プラズマ支援反応性スパッタリング法の開発


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タイトル: MgO薄膜高速成膜のための誘導結合プラズマ支援反応性スパッタリング法の開発
その他のタイトル: Development of Inductively-Coupled Plasma Assisted Reactive Sputtering for High Rate Deposition of Magnesium Oxide Thin Films
著者: 小山, 悠 / 岩谷, 勝 / 篠原, 正典 / 松田, 良信 / 藤山, 寛
著者(別表記) : Koyama, Yu / Iwaya, Masaru / Shinohara, Masanori / Matsuda, Yoshinobu / Fujiyama, Hiroshi
発行日: 2003年 7月
引用: 長崎大学工学部研究報告 Vol.33(61) p. 47-52, 2003
抄録: Magnesium oxide thin films are now of great concern as electrode protection layer with very high secondary electron emission coefficient in the application such as plasma display panel (PDP). For the high-rate deposition of this material, we propose a new reactive sputtering process in which conventional planar magnetron discharges are assisted by the inductively coupled plasma. In this paper, the current status of the development of this facility is described. Experimental results of plasma diagnostics and thin film analysis are presented.
URI: http://hdl.handle.net/10069/15047
ISSN: 02860902
資料タイプ: Departmental Bulletin Paper
出現コレクション:第33巻 第61号

引用URI : http://hdl.handle.net/10069/15047

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