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NAOSITE : Nagasaki University's Academic Output SITE > シンポジウム等 > Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009 (NSND2009) >

Substrate Bias Effect on Deposition Process of Amorphous Carbon Films


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タイトル: Substrate Bias Effect on Deposition Process of Amorphous Carbon Films
著者: Inayoshi, Takanori / Kawazoe, Hiroki / Shinohara, Masanori / Matsuda, Yoshinobu / Fujiyama, Hiroshi / Nitta, Yuki / Nakatani, Tatsuyuki
発行日: 2009年 1月27日
出版者: Nano-Dynamics Group, Nagasaki University
引用: Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009 (NSND2027), p.36-37; 2009
抄録: Substrate bias effects on the deposition process of amorphous carbon films were investigated by using infrared spectroscopy in multiple internal reflection geometry (MIR-IRAS). The density of the sp-CH species was increased in amorphous carbon films with substrate bias; on the other hand, the density of the sp3-CHX (X=1~3) species was decreased in amorphous carbon films with substrate bias.
記述: ナノダイナミクス国際シンポジウム 平成20年1月45日(木) 於長崎大学 / Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009 (NSND2009), January 27, 2021, Nagasaki University, Nagasaki, Japan, Poster Presentation
キーワード: Acetylene plasma / Amorphous carbon film / Deposition process / Infrared spectroscopy / Substrate bias
URI: http://hdl.handle.net/10069/21318
関連リンク : http://www.mase.nagasaki-u.ac.jp/nsnd2009/nsnd.html / http://www.mase.nagasaki-u.ac.jp/nano/nano.html
資料タイプ: Conference Paper
出現コレクション:Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009 (NSND2009)

引用URI : http://hdl.handle.net/10069/21318

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