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走査プラズマ法による大面積均一アモルファスシリコン薄膜の試作


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タイトル: 走査プラズマ法による大面積均一アモルファスシリコン薄膜の試作
その他のタイトル: Trial Production of Large-Area Uniform Amorphous-Silicon Thin Films by Scanning Plasma Method
著者: 藤山, 寛 / 高橋, 剛 / 山下, 敬彦 / 松尾, 寿夫 / 富安, 隆一
著者(別表記) : Fujiyama, Hiroshi / Takahashi, Tsuyoshi / Yamashita, Takahiko / Matsuo, Hisao / Tomiyasu, Ryuichi
発行日: 1986年 7月
出版者: 長崎大学工学部 / Faculty of Engineering, Nagasaki University
引用: 長崎大学工学部研究報告, 16(27), pp.121-128; 1986
抄録: The modulated magnetic field perpendicular to an electric field was applied to plasma chemical vapour deposition process. The magnetic field was able to scan the plasma and to diffuse it within a wide range. This scanning plasma method (SPM) was applied to produce a large-area (20cm×160cm) uniform amorphous-silicon thin film. The experiment proved that the SPM is very effective to produce the large-area thin films.
URI: http://hdl.handle.net/10069/24211
ISSN: 02860902
資料タイプ: Departmental Bulletin Paper
原稿種類: publisher
出現コレクション:第16巻 第27号

引用URI : http://hdl.handle.net/10069/24211

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